MODA INFANTOJUVENIL INCLUSIVA

Un estudio sobre acción social realizada con niños autistas en la ciudad de Criciúma/SC

Autores/as

  • Laura D’Agostin Nesi Zanatta Serviço Nacional de Aprendizagem Industrial - SENAI/SC, Criciúma, Santa Catarina - Brasil
  • Maria Julia de Lima Dassoler SENAI https://orcid.org/0000-0002-5135-498X
  • Camila Flores Gonçalves Serviço Nacional de Aprendizagem Industrial - SENAI/SC, Criciúma, Santa Catarina - Brasil
  • Rafaela Silva Martins Serviço Nacional de Aprendizagem Industrial - SENAI/SC, Criciúma, Santa Catarina - Brasil
  • Victoria Zanatta Montedo

DOI:

https://doi.org/10.18624/etech.v16i1.1265

Resumen

En este estudio sobre moda inclusiva para niños autistas, se realizó una visita a una tienda de ropa infantil y una actividad de personalización de camisetas con dos niños autistas de Criciúma/SC. Los resultados mostraron que estas experiencias promovieron una mayor interacción e integración de los niños con el mundo de la moda, fortaleciendo su autonomía, autoestima y facilitando el proceso de elección y uso de prendas diferentes. Además, la personalización estimuló la creatividad de los niños y su mayor participación al producir un estampado personalizado en su propia prenda de ropa.

Palabras clave: moda; inclusión social; autismo.

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Biografía del autor/a

Laura D’Agostin Nesi Zanatta, Serviço Nacional de Aprendizagem Industrial - SENAI/SC, Criciúma, Santa Catarina - Brasil

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Camila Flores Gonçalves, Serviço Nacional de Aprendizagem Industrial - SENAI/SC, Criciúma, Santa Catarina - Brasil

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Rafaela Silva Martins, Serviço Nacional de Aprendizagem Industrial - SENAI/SC, Criciúma, Santa Catarina - Brasil

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Publicado

2023-12-07

Cómo citar

D’Agostin Nesi Zanatta, L. ., de Lima Dassoler, M. J., Flores Gonçalves, C. ., Silva Martins, R. ., & Zanatta Montedo, V. . (2023). MODA INFANTOJUVENIL INCLUSIVA: Un estudio sobre acción social realizada con niños autistas en la ciudad de Criciúma/SC. Revista E-TECH: Tecnologias Para Competitividade Industrial - ISSN - 1983-1838, 16(1). https://doi.org/10.18624/etech.v16i1.1265